| Русский Русский | English English |
   
Главная Current Issue
05 | 04 | 2020
2020, 01 январь (January)

DOI: 10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

Бирюков М. Г., Одиноков В. В., Панин В. В., Долгополов В. М., Шубников А. В.
МОДУЛЬНОЕ ПРОЕКТИРОВАНИЕ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
(c. 32-36)

Аннотация. Представлен модульный принцип создания вакуумно-плазменного оборудования для микроэлектронных технологий с использованием различных вариантов загрузки–выгрузки пластин в рабочий модуль (реактор): установки с поштучной ручной загрузкой–выгрузкой пластин, с поштучной загрузкой–выгрузкой пластин из шлюзовой камеры манипулятором, с поштучной загрузкой–выгрузкой пластин манипулятором из кассеты в кассету в шлюзовой камере, а также оборудование кластерного типа. Рабочие модули установок обеспечивают высокие требования к процессам плазмохимического травления.

Ключевые слова: вакуумные установки; интегральные схемы; загрузка–выгрузка пластин; источник плазмы; высококачественный генератор; травление пластин.

 

Biryukov M. G., Odinokov V. V., Panin V. V., Dolgopolov V. M., Shubnikov A. V.
MODULAR PRINCIPLE OF VACUUM SYSTEMS CREATING FOR MICROELECTRONIC TECHNOLOGIES
(pp. 32-36)

Abstract. The modular principle of creating vacuum-plasma equipment for microelectronic technologies with using various options for loading and unloading substrates into a working module (reactor) is presented: systems with single manual loading and unloading substrates, with single loading and unloading substrates from a loadlock by a manipulator, with single loading and unloading substrates with a manipulator from a cassette-to-cassette in a loadlock, as well as cluster type equipment. Working modules of systems provide high requirements to the processes of plasma etching.

Keywords: Vacuum installations; Integrated circuits; Plate loading and unloading; Plasma source; HF-generator; Plate etching.

Рус

М. Г. Бирюков, В. В. Одиноков, В. В. Панин, В. М. Долгополов, А. В. Шубников (АО «НИИ точного машиностроения», Зеленоград, Россия) E-mail: Данный адрес e-mail защищен от спам-ботов, Вам необходимо включить Javascript для его просмотра.  

Eng

M. G. Biryukov, V. V. Odinokov, V. V. Panin, V. M. Dolgopolov, A. V. Shubnikov (JSC “Research Institute of Precision Machine Manufacturing”, Zelenograd, Russia) E-mail: Данный адрес e-mail защищен от спам-ботов, Вам необходимо включить Javascript для его просмотра.  

Рус

1. Одиноков В. В., Панфилов Ю. В. Выбор типа вакуумного нанотехнологического оборудования по критерию заданной производительности // Наноинженерия. 2011. № 11. С. 7 – 18.
2. Пат. 2679863 РФ, МПК В25J 9/10 (2006.1); В25J 18/00 (2006.1) от 13.02.2019. Манипулятор для перемещения полупроводниковых пластин / Бирюков М. Г. и др.; заявитель и патентообладатель ОАО «Науч.-исследов. институт точного машиностроения», № 2018115100; заявл. 24.04.2018; опубл. 13.02.2019, Бюл. № 5.
3. Одиноков В. В., Долгополов В. М., Иракин П. А., Панин В. В. Технологическое оборудование для глубокого травления кремния, мелкощелевой изоляции, удаления фоторезиста и атомно-слоевого осаждения // Электроника и микроэлектроника СВЧ 2018. № 1 (1). С. 24 – 29.
4. Одиноков В. В. Новые вакуумно-плазменные процессы и оборудование для микроэлектроники // Вакуумная техника и технология. 2018. Т. 28, № 1. С. 2.1 – 2.8.

Eng

1. Odinokov V. V., Panfilov Yu. V. (2011). The choice of the type of vacuum nanotechnological equipment according to the criterion given performance. Nanoinzheneriya, (11), рр. 7 - 18. [in Russian language]
2. Biryukov M. G. et al. Semiconductor wafer manipulator. Patent No. 2679863. Russian Federation. [in Rusian language]
3. Odinokov V. V., Dolgopolov V. M., Irakin P. A., Panin V. V. (2018). Technological equipment for deep etching of silicon, finally slit insulation, removal of photoresist and atomic layer deposition. Elektronika i mikroelektronika SVCh, 1(1), рp. 24 - 29. [in Russian language]
4. Odinokov V. V. (2018). New vacuum-plasma processes and equipment for microelectronics. Vakuumnaya tekhnika i tekhnologiya, Vol. 28, (1), рр. 2.1 - 2.8. [in Russian language]

Рус

Статью можно приобрести в электронном виде (PDF формат).

Стоимость статьи 350 руб. (в том числе НДС 18%). После оформления заказа, в течение нескольких дней, на указанный вами e-mail придут счет и квитанция для оплаты в банке.

После поступления денег на счет издательства, вам будет выслан электронный вариант статьи.

Для заказа скопируйте doi статьи:

10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

и заполните  форму 

Отправляя форму вы даете согласие на обработку персональных данных.

.

 

Eng

This article  is available in electronic format (PDF).

The cost of a single article is 350 rubles. (including VAT 18%). After you place an order within a few days, you will receive following documents to your specified e-mail: account on payment and receipt to pay in the bank.

After depositing your payment on our bank account we send you file of the article by e-mail.

To order articles please copy the article doi:

10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

and fill out the  form  

 

.

 

 
Search
Баннер
Баннер
Баннер
Баннер
Баннер
Баннер
Баннер
Rambler's Top100 Яндекс цитирования