10.14489/hb.2016.05.pp.006-015

2016, 05 май (May)

DOI: 10.14489/hb.2016.05.pp.006-015

Панфилов Ю. В.
НОВЫЕ РАЗДЕЛЫ В КЛАССИФИКАЦИИ МЕТОДОВ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ
(c. 6-15)

Аннотация. В классификацию методов нанесения тонких пленок в вакууме внесены новые разделы, которые отражают современный уровень развития технологии нанесения тонкопленочных покрытий в машиностроении, электронике, наноиндустрии и в других областях науки и техники. Представлены современные методы физического и химического нанесения тонких пленок в вакууме, такие как пароструйное осаждение, атомнослоевое осаждение, а также ряд методов, базирующихся на воздействии лазерного излучения на твердое, жидкое или газообразное вещество. Показаны методы лазерно-индуцированного переноса пленок, дугового испарения с сепарацией плазменного потока, низкоскоростное и сверхзвуковое пароструйное и кластерное осаждение, ионно-кластерный метод, импульсное лазерное осаждение или лазерная абляция. Методы химического осаждения дополнены лазернохимическим осаждением из газовой фазы, химической лучевой эпитаксией, лазерным разложением металлоорганических соединений, локальным лазерным термоактивированным синтезом и лазерной импульсной молекулярнолучевой эпитаксией.

Ключевые слова: тонкие пленки; вакуум; физическое осаждение; химическое осаждение; машиностроение; электроника; нанотехнологии.

Panfilov Yu. V.
MODERN CHAPTERS IN CLASSIFICATION OF THIN FILM DEPOSITION METHODS
(pp. 6-15)

Abstract. Modern chapters which reflect nowadays development level of the coating technology in machinery and electronics and nanotechnology and other field of science and technology are involved in thin film deposition classification. Modern physical vapor deposition and chemical vapor deposition methods, such as: Jet Vapor Deposition and Atom Layer Deposition and a number of Laser Deposition Methods as well are represented. The methods of Laser Induced Film Transfer and Arc Evaporation with Plasma Stream Separation and Low Velocity and Ultrasonic Jet Vapor Deposition and Cluster Deposition and Pulsed Laser Deposition (Laser Ablation) as well are shown. Chemical Vapor Deposition methods complemented with Laser Chemical Vapor Deposition and laser decomposition of metalorganic composition and local laser thermo-activated synthesis and Pulsed Laser Molecular Beam Epitaxy as well.

Keywords: Thin films; Vacuum; Physical vapor deposition; Chemical vapor deposition; Machinery; Electronics; Библиографический список

+ - Информация об авторах (About the Authors) Click to collapse

Рус

Ю. В. Панфилов (Московский государственный технический университет им. Н. Э. Баумана) E-mail: Данный адрес e-mail защищен от спам-ботов, Вам необходимо включить Javascript для его просмотра.

Eng

Yu. V. Panfilov (Bauman Moscow State Technical University) E-mail: Данный адрес e-mail защищен от спам-ботов, Вам необходимо включить Javascript для его просмотра.

+ - Библиографический список (References) Click to collapse

Рус

1. Ковалев Л. К., Панфилов Ю. В. Методы нанесения тонких пленок в вакууме / Справочник. Инженерный журнал. С приложением. 1997. № 3. С. 20 – 28.
2. Машиностроение. Энциклопедия / Ред. совет: К. В. Фролов (пред.) и др. М.: Машиностролние. Технология, оборудование и системы управления в электронном машиностроении. Т. III – 8 / Ю. В. Панфилов, Л. К. Ковалев, В. Г. Блохин и др.; под общ. ред. Ю. В. Панфилова. 2000. 744 с.
3. Карпенко А. Ю., Батурин В. А. Источники кластерного пучка // Журнал наноэлектронной физики. Т. 4, № 3. 03015 (13сс). (2012).
4. Becker J. S. Atomic Layer Deposition of Metal Oxide and Nitride thin Film / Harvard University Cambridge. Massachusetts. 2002. 154 p.
5. Вейко В. П., Метев С. М. Лазерные технологии в микроэлектронике. Издание БАН, София, 1991. 141 с.
6. Кузьмичев А. И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления. К.: Аверс, 2008. 244 с.
7. Башков В. М., Беляева А. О., Седых Н. С., Токарев Д. А. Исследование физико-химических параметров алмазоподобных покрытий, полученных методами электродугового физического осаждения с сепарацией плазмы // Наноинженерия. 2013. № 11. С. 35 – 38.
8. Vispute R. D., Narayan J., Hong Wu, Jagannadham K. Epitaxial Growth of AlN thin Films on Silicon (111) Substrates by Pulsed Laser Deposition / Department of Materials Science and Engineering, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27695-7916.
9. Sun Y., Yamamori M., Egawa T., Ishikawa H. Incorporation of N into GaAsN under N Overpressure and Underpressure Conditions. Japanese Journal of Applied Physics 2004; 43 2409-2413. DOI: 10.1143/JJAP.43.2409.

Eng

1. Kovalev L. K., Panfilov Iu. V. (1997). Methods for deposition of thin films in vacuum. Spravochnik. Inzhenernyi zhurnal, (3), pp. 20-28.
2. Panfilov Iu. V. (Ed.), Kovalev L. K., Blokhin V. G. (2000). Mechanical engineering. Encyclopedia. Technology, equipment and control systems in electronic engineering. Vol. III – 8. Moscow: Mashinostroenie
3. Karpenko A. Iu., Baturin V. A. (2012). Sources of cluster beam. Zhurnal nanoelektronnoi fiziki, 4(3), 03015 (13сс).
4. Becker J. S. (2002). Atomic layer deposition of metal oxide and nitride thin film. Massachusetts: Harvard University Cambridge.
5. Veiko V. P., Metev S. M. (1991). Laser technology in microelectronics. Sofiia: Izdanie BAN.
6. Kuz'michev A. I. (2008). Magnetron sputtering systems. Book 1. Introduction to the physics and technology of magnetron sputtering. Kiev: Avers.
7. Bashkov V. M., Beliaeva A. O., Sedykh N. S., Tokarev D. A. (2013). Study of physical and chemical properties of diamondlike coatings produced by physical vapor deposition with arc plasma separation. Nanoinzheneriia, (11), pp. 35-38.
8. Vispute R. D., Narayan J., Hong Wu, Jagannadham K. Epitaxial growth of AlN thin films on silicon (111) substrates by pulsed laser deposition. Department of Materials Science and Engineering, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27695-7916.
9. Sun Y., Yamamori M., Egawa T., Ishikawa H. (2004). Incorporation of N into GaAsN under N overpressure and underpressure conditions. Japanese Journal of Applied Physics, 43, pp. 2409-2413. doi: 10.1143/JJAP.43.2409. Nanotechnology.

+ - Заказать электронную версию статьи (Purchase digital version of a single article) Click to collapse

Рус

Статью можно приобрести в электронном виде (PDF формат).

Стоимость статьи 350 руб. (в том числе НДС 18%). После оформления заказа, в течение нескольких дней, на указанный вами e-mail придут счет и квитанция для оплаты в банке.

После поступления денег на счет издательства, вам будет выслан электронный вариант статьи.

Для заказа статьи заполните форму:

Форма заказа статьи

Eng

This article is available in electronic format (PDF).

The cost of a single article is 350 rubles. (including VAT 18%). After you place an order within a few days, you will receive following documents to your specified e-mail: account on payment and receipt to pay in the bank.

After depositing your payment on our bank account we send you file of the article by e-mail.

To order articles please fill out the form below: