10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

2020, 01 январь (January)

DOI: 10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

Бирюков М. Г., Одиноков В. В., Панин В. В., Долгополов В. М., Шубников А. В.
МОДУЛЬНОЕ ПРОЕКТИРОВАНИЕ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
(c. 32-36)

Аннотация. Представлен модульный принцип создания вакуумно-плазменного оборудования для микроэлектронных технологий с использованием различных вариантов загрузки–выгрузки пластин в рабочий модуль (реактор): установки с поштучной ручной загрузкой–выгрузкой пластин, с поштучной загрузкой–выгрузкой пластин из шлюзовой камеры манипулятором, с поштучной загрузкой–выгрузкой пластин манипулятором из кассеты в кассету в шлюзовой камере, а также оборудование кластерного типа. Рабочие модули установок обеспечивают высокие требования к процессам плазмохимического травления.

Ключевые слова: вакуумные установки; интегральные схемы; загрузка–выгрузка пластин; источник плазмы; высококачественный генератор; травление пластин.

Biryukov M. G., Odinokov V. V., Panin V. V., Dolgopolov V. M., Shubnikov A. V.
MODULAR PRINCIPLE OF VACUUM SYSTEMS CREATING FOR MICROELECTRONIC TECHNOLOGIES
(pp. 32-36)

Abstract. The modular principle of creating vacuum-plasma equipment for microelectronic technologies with using various options for loading and unloading substrates into a working module (reactor) is presented: systems with single manual loading and unloading substrates, with single loading and unloading substrates from a loadlock by a manipulator, with single loading and unloading substrates with a manipulator from a cassette-to-cassette in a loadlock, as well as cluster type equipment. Working modules of systems provide high requirements to the processes of plasma etching.

Keywords: Vacuum installations; Integrated circuits; Plate loading and unloading; Plasma source; HF-generator; Plate etching.

+ - Информация об авторах (About the Authors) Click to collapse

Рус

М. Г. Бирюков, В. В. Одиноков, В. В. Панин, В. М. Долгополов, А. В. Шубников (АО «НИИ точного машиностроения», Зеленоград, Россия) E-mail: Данный адрес e-mail защищен от спам-ботов, Вам необходимо включить Javascript для его просмотра.

Eng

M. G. Biryukov, V. V. Odinokov, V. V. Panin, V. M. Dolgopolov, A. V. Shubnikov (JSC “Research Institute of Precision Machine Manufacturing”, Zelenograd, Russia) E-mail: Данный адрес e-mail защищен от спам-ботов, Вам необходимо включить Javascript для его просмотра.

+ - Библиографический список (References) Click to collapse

Рус

1. Одиноков В. В., Панфилов Ю. В. Выбор типа вакуумного нанотехнологического оборудования по критерию заданной производительности // Наноинженерия. 2011. № 11. С. 7 – 18.
2. Пат. 2679863 РФ, МПК В25J 9/10 (2006.1); В25J 18/00 (2006.1) от 13.02.2019. Манипулятор для перемещения полупроводниковых пластин / Бирюков М. Г. и др.; заявитель и патентообладатель ОАО «Науч.-исследов. институт точного машиностроения», № 2018115100; заявл. 24.04.2018; опубл. 13.02.2019, Бюл. № 5.
3. Одиноков В. В., Долгополов В. М., Иракин П. А., Панин В. В. Технологическое оборудование для глубокого травления кремния, мелкощелевой изоляции, удаления фоторезиста и атомно-слоевого осаждения // Электроника и микроэлектроника СВЧ 2018. № 1 (1). С. 24 – 29.
4. Одиноков В. В. Новые вакуумно-плазменные процессы и оборудование для микроэлектроники // Вакуумная техника и технология. 2018. Т. 28, № 1. С. 2.1 – 2.8.

Eng

1. Odinokov V. V., Panfilov Yu. V. (2011). The choice of the type of vacuum nanotechnological equipment according to the criterion given performance. Nanoinzheneriya, (11), рр. 7 - 18. [in Russian language]
2. Biryukov M. G. et al. Semiconductor wafer manipulator. Patent No. 2679863. Russian Federation. [in Rusian language]
3. Odinokov V. V., Dolgopolov V. M., Irakin P. A., Panin V. V. (2018). Technological equipment for deep etching of silicon, finally slit insulation, removal of photoresist and atomic layer deposition. Elektronika i mikroelektronika SVCh, 1(1), рp. 24 - 29. [in Russian language]
4. Odinokov V. V. (2018). New vacuum-plasma processes and equipment for microelectronics. Vakuumnaya tekhnika i tekhnologiya, Vol. 28, (1), рр. 2.1 - 2.8. [in Russian language]

+ - Заказать электронную версию статьи (Purchase digital version of a single article) Click to collapse

Рус

Статью можно приобрести в электронном виде (PDF формат).

DOI: 10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

Скопируйте DOI статьи и перейдите по ссылке https://id-spektr.ru/product/pokupka-elektronnoy-stati-iz-zhurnala-spravochnik-inzhenernyy-zhurnal

В комментарии к заказу обязательно укажите DOI статьи.

Eng

This article is available in electronic format (PDF).

DOI: 10.14489/hb.2020.01.pp.032-036

Copy the article DOI and follow the link https://id-spektr.ru/product/pokupka-elektronnoy-stati-iz-zhurnala-spravochnik-inzhenernyy-zhurnal

Please specify the article DOI in the order comments.